紫外線光催化除臭設(shè)備又稱之為紫外光除臭設(shè)備，光電離子廢氣凈化設(shè)備，光解催化氧化廢氣凈化設(shè)備等。它是一種能去除揮發(fā)性物、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇、苯等各種惡臭氣體的環(huán)保設(shè)備。脫臭效果較好，脫臭效果超過我國頒布的惡臭污染物排放標準（GB14554-93）。 

紫外線光催化除臭設(shè)備應(yīng)用范圍

噴漆廢氣處理、油墨廢氣處理、塑膠廢氣處理、化工廢氣處理、制藥廢氣處理、污水池臭氣處理、飼料廢氣處理、食品車間廢氣處理、電鍍廠廢氣處理、電子廢氣處理、橡膠廢氣治理、輪胎廠廢氣處理、家具廠噴漆廢氣處理

、汽車噴漆廢氣處理、塑料廠廢氣處理、鑄造廢氣處理等各種有污染源惡臭氣體的廢氣處理脫臭凈化。 

紫外線光催化除臭設(shè)備工作原理：

廢氣氣體處用排風設(shè)備輸入到光催化除臭設(shè)備后，運用   UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協(xié)同分解氧化反應(yīng),使惡臭氣體物質(zhì)其降解化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風管道排出室外. 

紫外線光催化除臭設(shè)備技術(shù)簡介 

本產(chǎn)品利用   的   高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體和TiO2光催化，催化裂解惡臭氣體如：氮、胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結(jié)構(gòu)，使或無機高分子惡臭化合物分子鏈，在   紫外線光束照射下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等。 

TiO2光催化的催化化性在很大程度上影響光催光反應(yīng)速率，而TiO2光催光活性主要受TiO2的晶型和粒徑的影響。銳鈦型TiO2的催化。隨著粒徑的減少，電子與空穴簡單復合的概率降低，光催化活性增加。另外，孔隙率、平均孔徑、粒子表面狀態(tài)，純度等對其光催化活性也均有   影響。為了提高光降解效率，對TiO2光催化劑進化改性，如研制納米TiO2，制備TiO2的復合半導體，金屬離子摻雜、染料光敏化等。也可以采用各種的手段制備TiO2催化劑，以提高光催化劑的活性。 

利用   臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需氧分子結(jié)合，進而產(chǎn)生臭氧。UV+O2→O一+O*（活性氧）O+O2→O3（臭氧），眾所周知臭氧對物具有強的氧化作用，對惡臭氣體及其它刺激性異味   效果。 

利用   UV光束裂解惡臭氣體中病菌分子鍵，破壞病菌的核酸（DNA），再通過臭氧進行氧化反應(yīng)，   達到脫臭及殺滅病菌的目的。 

紫外線光催化除臭設(shè)備優(yōu)點

除惡臭

能去除揮發(fā)性物（VOC）、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率可達90%以上，脫臭效果超過我國1993年頒布的惡臭污染物排放標準（GB14554-93）和1996年頒布的《大氣污染物綜合排放標準》(GB16297-1996)。

需添加任何物質(zhì)

只需要設(shè)置相應(yīng)的排風管道和排風動力，使惡臭/工業(yè)廢氣通過本設(shè)備進行分解凈化，無需添加任何物質(zhì)參與化學反應(yīng)。

適應(yīng)性強

UV光解凈化器可適應(yīng)，大氣量，不同工業(yè)廢氣物質(zhì)的脫臭、凈化處理，可每天24小時連續(xù)工作，運行穩(wěn)定。

適應(yīng)性強的光氧催化廢氣凈化器圖片

運行成本低

UV光解凈化器無任何機械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護，只需作定期檢查，本設(shè)備能耗低，設(shè)備風阻低＜50pa,可節(jié)約大量排風動力能耗。

無需預處理

氣體無需進行的預處理，如加溫、加濕等,設(shè)備工作環(huán)境溫度在攝氏-30℃－95℃之間，濕度在30%－、PH值在2-13之間均可正常工作。

設(shè)備占地面積小，自重輕

適合于布置緊湊、場地狹小等條件，設(shè)備占地面積＜1.2平方米/處理10000m3/h風量。

設(shè)備占地面積小，自重輕的光氧廢氣凈化器圖片

材料制造

、蝕，設(shè)備性能   穩(wěn)定，采用不銹鋼材質(zhì)，設(shè)備使用壽命在十五年以上。

產(chǎn)品

采用技術(shù)理念，通過我公司工程技術(shù)人員長期的試驗，研制出的，具有自主知識產(chǎn)權(quán)的凈化產(chǎn)品可分解工業(yè)廢氣中物質(zhì)，并能達到脫臭、凈化效果，經(jīng)分解后的工業(yè)廢氣，可達到化排放，不產(chǎn)生二次污染，同時達到病菌的作用。

惡臭污染物廠界標準值是對無組織排放源（指沒有排氣筒或排氣筒高度低于15m的排放源）的限值，見表。 

惡臭氣體的主要來源

紫外線光催化除臭設(shè)備案例